Veranstaltung

LV-Nummer 0431 L 007
Gesamt-Lehrleistung 48,00 UE
Semester WS 2018/19
Veranstaltungsformat LV / Vorlesung
Gruppe Termingruppe 0
Organisationseinheiten Technische Universität Berlin
Fakultät IV
↳     Institut für Hochfrequenz und Halbleiter-Systemtechnologien
↳         34325800 FG S-Professur Technologie für Dünnschicht-Bauelemente (alt)
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Sprache Deutsch

Termine (1)


Do. 18.10.18 - 14.02.19, wöchentlich, 16:00 - 18:00

Charlottenburg
,
HFT-FT 512

Fakultät IV , Institut für Hochfrequenz und Halbleiter-Systemtechnologien , 34325800 FG S-Professur Technologie für Dünnschicht-Bauelemente (alt)

48,00 UE
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Legende
08:00
09:00
10:00
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16:00
17:00
Mo.
Di.
Mi.
Do.
Technologie der Dünnschicht-Bauelemente
Termingruppe 0
Charlottenburg, HFT-FT 512
Szyszka, Bernd
Fr.
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Bemerkung

Literatur Empfehlung: Milton Ohring, The materials science of thin films.

Inhalt

Die Vorlesung gibt eine Einführung in die industriellen Verfahren der Schicht- und Oberflächen­technik zur Herstellung von Dünnschicht-Bauelementen wie Solarzellen, Flachbildschirmen, LED- und OLED Lichtquellen.

Die Vorlesung gliedert sich in die folgenden Teile:

  • Einführung zu den Produkten der industriellen Oberflächentechnik: Photovoltaik, Displays, Flachbildschirme, Beleuchtungstechnik, Sensorik
  • Depositionsverfahren (vakuumbasierte Beschichtungsverfahren: PVD, CVD, PECVD, PLD. ALD; Atmosphärendruckverfahren: Sol-Gel, Ink-Jet, AP-CVD, Galvanik)
  • Materialgrundlagen: Keramischen Schichten, transparente Leiter, Halbleiter, Metalle
  • Struktur-Eigenschaftsbeziehungen
  • Materialcharakterisierung von Dünnschicht-Bauelementen
  • Neue Anwendungen: Neue Konzepte für Solarzellen, Oxidische Elektronik