Moses - Technologie für Dünnschicht-Bauelemente

Zur Modulseite PDF generieren

Modul / Version
#40184 / #1

Gültigkeit
WS 2015/16 - SoSe 2023

Verfügbare Sprache(n)
English

Titel des Moduls
Technology for Thin Film Devices
Technologie für Dünnschicht-Bauelemente

Leistungspunkte
6

Modulverantwortliche*r
Szyszka, Bernd

Benotung
Benotet

Prüfungsform
Mündliche Prüfung

Lehrsprache(n)
English

Zugehörigkeit

Fakultät
Fakultät IV

Institut
Institut für Hochfrequenz und Halbleiter-Systemtechnologien

Fachgebiet
34325800 FG S-Professur Technologie für Dünnschicht-Bauelemente

Prüfungsausschuss
Keine Angabe

Kontakt

Sekretariat
HFT 5-2

Ansprechpartner*in
Szyszka, Bernd

E-Mail-Adresse
bernd.szyszka@tu-berlin.de

Webseite

http://www.tfd.tu-berlin.de/

Diese Modulbeschreibung ist nicht oder nicht vollständig auf deutsch hinterlegt.

Es wird stattdessen der Inhalt der folgenden Sprachversion angezeigt: Englisch.

Klicken Sie hier um die Inhalte der fehlenden oder unvollständige Sprachversion (Deutsch) anzuzeigen

Diese Modulbeschreibung gilt nicht im aktuellen Semester.

Die Modulbeschreibung gilt nur für den Zeitraum WS 2015/16 - SoSe 2023. Die Version für das aktuelle Semester (SoSe 2025) finden Sie hier: Modulbeschreibung des SoSe 2025

Lernergebnisse

The students know the basic properties of the manufacturing of thin film devices and will be able to evaluate them. Futhermore, they know the fundamentals of coating processes, layer stacks and characterizatuin methods as well as applications of thin film devices.

Lehrinhalte

The course covers technological and application oriented aspects of thin film devices. Content of the course are atmospheric pressure and vacuum coating processes, plasma technologies, properties of thin films (electrical, optical and mechanical properties) and their dependance on the film structure, characterization methods and applications of thin film devices.

Modulbestandteile

Compulsory area

Die folgenden Veranstaltungen sind für das Modul obligatorisch:

Lehrveranstaltungen	Art	Nummer	Turnus	Sprache	SWS	ISIS	VVZ
Technology of Thin Film Devices	VL	0431 L 007	WiSe/SoSe	Keine Angabe	2

Compulsory elective area

Aus den folgenden Veranstaltungen muss eine Veranstaltung abgeschlossen werden.

Lehrveranstaltungen	Art	Nummer	Turnus	Sprache	SWS
Fundamentals of Vacuum and Plasma Process Technologies	VL		SoSe	en	2
Industrial Plasma Technologies	VL		SoSe	en	2
Dünne Schichten	SEM	3236 L 328	WiSe/SoSe	Keine Angabe	2

ISIS-Kurssuche nach Veranstaltungen des Moduls

Arbeitsaufwand und Leistungspunkte

Technology of Thin Film Devices (VL):

Aufwandbeschreibung	Multiplikator	Stunden	Gesamt
Präsenszeit	15.0	2.0h	30.0h
Vor-/Nachbereitung	15.0	4.0h	60.0h
			90.0h(~3 LP)

Fundamentals of Vacuum and Plasma Process Technologies (VL):

Aufwandbeschreibung	Multiplikator	Stunden	Gesamt
Präsenzzeit	15.0	2.0h	30.0h
Vor-/Nachbereitung	15.0	4.0h	60.0h
			90.0h(~3 LP)

Industrial Plasma Technologies (VL):

Aufwandbeschreibung	Multiplikator	Stunden	Gesamt
Präsenzzeit	15.0	2.0h	30.0h
Vor-/Nachbereitung	15.0	4.0h	60.0h
			90.0h(~3 LP)

Dünne Schichten (SEM):

Aufwandbeschreibung	Multiplikator	Stunden	Gesamt
Präsenzzeit	15.0	2.0h	30.0h
Vor-/Nachbereitung	15.0	4.0h	60.0h
			90.0h(~3 LP)

Der Aufwand des Moduls summiert sich zu 180.0 Stunden. Damit umfasst das Modul 6 Leistungspunkte.

Beschreibung der Lehr- und Lernformen

Das Wissen wird anhand von Vorlesungen und Seminaren vermittelt. Die Vorlesungsteilnehmer_innen organisieren sich in Gruppen, die semesterbegleitend selbständig vorgegebene Themen bearbeiten.

Voraussetzungen für die Teilnahme / Prüfung

Wünschenswerte Voraussetzungen für die Teilnahme an den Lehrveranstaltungen:

Es werden Kenntnisse in den Grundlagen der Physik und Elektrotechnik erwartet. Grundlagen in der Chemie sind wünschenswert.

Verpflichtende Voraussetzungen für die Modulprüfungsanmeldung:

Dieses Modul hat keine Prüfungsvoraussetzungen.

Abschluss des Moduls

Benotung

Benotet

Prüfungsform

Oral exam

Sprache(n)

English

Dauer/Umfang

Keine Angabe

Dauer des Moduls

Für Belegung und Abschluss des Moduls ist folgende Semesteranzahl veranschlagt:
1 Semester.

Dieses Modul kann in folgenden Semestern begonnen werden:
Winter- und Sommersemester.

Maximale teilnehmende Personen

Dieses Modul ist nicht auf eine Anzahl Studierender begrenzt.

Anmeldeformalitäten

Nähere Informationen erhalten Sie unter http://www.tfd.tu-berlin.de und im ISIS-Kurs.

Literaturhinweise, Skripte

Skript in Papierform

Verfügbarkeit: nicht verfügbar

Skript in elektronischer Form

Verfügbarkeit: nicht verfügbar

Literatur

Empfohlene Literatur
Milton Ohring, Materials Science of Thin Films, 978-0-12-524975-1

Zugeordnete Studiengänge

Semester:

Zeige auch ausgelaufene Studiengänge und StuPOs

Diese Modulversion wird in folgenden Studiengängen verwendet:

	Studiengang / StuPO	StuPOs	Verwendungen	Erste Verwendung	Letzte Verwendung
Dieses Modul findet in keinem Studiengang Verwendung.

Studierende anderer Studiengänge können dieses Modul ohne Kapazitätsprüfung belegen.

Sonstiges

Keine Angabe