Moses - Technologie für Dünnschicht-Bauelemente

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Modul / Version
#40184 / #1

Gültigkeit
WS 2015/16 - SoSe 2023

Verfügbare Sprache(n)
Englisch

Titel des Moduls
Technology for Thin Film Devices
Technologie für Dünnschicht-Bauelemente

Leistungspunkte
6

Modulverantwortliche*r
Szyszka, Bernd

Benotung
Benotet

Prüfungsform
Mündliche Prüfung

Lehrsprache(n)
Englisch

Zugehörigkeit

Fakultät
Fakultät IV

Institut
Institut für Hochfrequenz und Halbleiter-Systemtechnologien

Fachgebiet
34325800 FG S-Professur Technologie für Dünnschicht-Bauelemente

Prüfungsausschuss
Keine Angabe

Kontakt

Sekretariat
HFT 5-2

Ansprechpartner*in
Szyszka, Bernd

E-Mail-Adresse
bernd.szyszka@tu-berlin.de

Webseite

https://tu.berlin/tfd

Diese Modulbeschreibung ist nicht oder nicht vollständig auf deutsch hinterlegt.

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Diese Modulbeschreibung gilt nicht im aktuellen Semester.

Die Modulbeschreibung gilt nur für den Zeitraum WS 2015/16 - SoSe 2023. Die Version für das aktuelle Semester (SoSe 2025) finden Sie hier: Modulbeschreibung des SoSe 2025

Lernergebnisse

Die Studierenden kennen die wesentlichen Technologien für die Herstellung von Dünnschicht-Bauelementen und können diese bewerten. Sie kennen die Grundlagen der Beschichtungsprozesse, der Schichtysteme und deren Charakterisiserungsverfahren sowie der Anwendungen von Dünnschichtbauelementen.

Lehrinhalte

Inhalt des Moduls sind technologische und anwendungsbezogene Aspekte für die Dünnschicht-Bauelemente. Behandelt werden: Atmosphärendruck und Vakuumbeschichtungsverfahren, Plasmatechnologie, Eigenschaften dünner Schichten (elektrische, optische und mechanische Eigenschaften) und deren Zusammenhang mit dem Schichtaufbau, Charakterisierungsverfahren und Anwendungen von Dünnschicht-Bauelementen.

Modulbestandteile

Pflichtbereich

Die folgenden Veranstaltungen sind für das Modul obligatorisch:

Lehrveranstaltungen	Art	Nummer	Turnus	Sprache	SWS	ISIS	VVZ
Technology of Thin Film Devices	VL	0431 L 007	WiSe/SoSe	Keine Angabe	2

Wahlpflichtbereich

Aus den folgenden Veranstaltungen muss eine Veranstaltung abgeschlossen werden.

Lehrveranstaltungen	Art	Nummer	Turnus	Sprache	SWS
Fundamentals of Vacuum and Plasma Process Technologies	VL		SoSe	en	2
Industrial Plasma Technologies	VL		SoSe	en	2
Dünne Schichten	SEM	3236 L 328	WiSe/SoSe	Keine Angabe	2

ISIS-Kurssuche nach Veranstaltungen des Moduls

Arbeitsaufwand und Leistungspunkte

Technology of Thin Film Devices (VL):

Aufwandbeschreibung	Multiplikator	Stunden	Gesamt
Präsenszeit	15.0	2.0h	30.0h
Vor-/Nachbereitung	15.0	4.0h	60.0h
			90.0h(~3 LP)

Fundamentals of Vacuum and Plasma Process Technologies (VL):

Aufwandbeschreibung	Multiplikator	Stunden	Gesamt
Präsenzzeit	15.0	2.0h	30.0h
Vor-/Nachbereitung	15.0	4.0h	60.0h
			90.0h(~3 LP)

Industrial Plasma Technologies (VL):

Aufwandbeschreibung	Multiplikator	Stunden	Gesamt
Präsenzzeit	15.0	2.0h	30.0h
Vor-/Nachbereitung	15.0	4.0h	60.0h
			90.0h(~3 LP)

Dünne Schichten (SEM):

Aufwandbeschreibung	Multiplikator	Stunden	Gesamt
Präsenzzeit	15.0	2.0h	30.0h
Vor-/Nachbereitung	15.0	4.0h	60.0h
			90.0h(~3 LP)

Der Aufwand des Moduls summiert sich zu 180.0 Stunden. Damit umfasst das Modul 6 Leistungspunkte.

Beschreibung der Lehr- und Lernformen

Keine Angabe

Voraussetzungen für die Teilnahme / Prüfung

Wünschenswerte Voraussetzungen für die Teilnahme an den Lehrveranstaltungen:

Keine Angabe

Verpflichtende Voraussetzungen für die Modulprüfungsanmeldung:

Dieses Modul hat keine Prüfungsvoraussetzungen.

Abschluss des Moduls

Benotung

Benotet

Prüfungsform

Mündliche Prüfung

Sprache(n)

Englisch

Dauer/Umfang

Keine Angabe

Dauer des Moduls

Für Belegung und Abschluss des Moduls ist folgende Semesteranzahl veranschlagt:
1 Semester.

Dieses Modul kann in folgenden Semestern begonnen werden:
Winter- und Sommersemester.

Maximale teilnehmende Personen

Dieses Modul ist nicht auf eine Anzahl Studierender begrenzt.

Anmeldeformalitäten

Keine Angabe

Literaturhinweise, Skripte

Skript in Papierform

Verfügbarkeit: nicht verfügbar

Skript in elektronischer Form

Verfügbarkeit: nicht verfügbar

Literatur

Empfohlene Literatur
Milton Ohring, Materials Science of Thin Films, 978-0-12-524975-1

Zugeordnete Studiengänge

Semester:

Zeige auch ausgelaufene Studiengänge und StuPOs

Diese Modulversion wird in folgenden Studiengängen verwendet:

	Studiengang / StuPO	StuPOs	Verwendungen	Erste Verwendung	Letzte Verwendung
Dieses Modul findet in keinem Studiengang Verwendung.

Studierende anderer Studiengänge können dieses Modul ohne Kapazitätsprüfung belegen.

Sonstiges

Keine Angabe